2011/02/15-張琳一

 

有機金屬化學氣相沉積機台(Metalorganic Chemical Vapor Phase Deposition；MOCVD)設備大廠Veeco Instruments日前正式發表最新一代的TurboDisc MaxBright氮化鎵(GaN) MOCVD機台。MaxBright是針對高亮度LED(HBLED)所開發的「多反應腔」(multi-reactor chamber) MOCVD系統，是目前業界生產效率最高(highest productivity)、機台擁有成本最低(lowest cost of ownership)的MOCVD機台。Veeco表示，MaxBright現正陸續安排出貨交機予南韓、台灣及大陸等地的LED磊晶大廠。
 

MaxBright MOCVD系統是根據Veeco前一代全球熱賣的K465i機台的反應腔為基礎，給予優化及多腔式的組合搭配。它繼承了K465i的優異特性，如磊晶產能提升、加熱溫控穩定，以及可達到最高的磊晶圓一致性與極佳的製程重複性的先進專利Uniform FlowFlange技術。此外，MaxBright機台架構可以模組化地彈性配置為2個或4個反應腔的結構，最多可提升高達4倍以上的產出；同時並可依照客戶製程需求，提供序列分層式沉積(sequential deposition)功能。

此外，MaxBright MOCVD系統在反應腔的晶圓承載配置進行最佳化設計，使得MaxBright提供了業界最高的晶圓承載數量，2吋晶圓可以承載高達216片，4吋晶圓提升至56片，6吋晶圓可達24片，8吋晶圓亦可承載12片，這個特性使得MaxBright的反應腔晶圓數量產出比任何的MOCVD都高出甚多。

由於MaxBright的反應腔(chamber)設計與K465i相同，因此當客戶由原K465i機台轉換至MaxBright機台時，無需重新調整生產線製程；此外，MaxBright有超過60%的零件與K465i相同，因此當客戶同時擁有兩種機台時，可減少運轉維護成本。這種「無縫製程轉移」(seamless process transfer)的共通性設計，可以讓客戶得以立即上線生產，並可大幅減少不必要的零件庫存成本。

Veeco化合物半導體事業部執行副總William J. Miller博士表示，MaxBright是目前高亮度LED磊晶設備市場生產效率最高的MOCVD機台，並可彈性地針對LED結構的需求，提供單一反應腔或多反應腔的磊晶層生產能力。此外，MaxBright精巧的設備體積，使得其所節省的空間效益是傳統單一MOCVD機台的2.5倍。綜合其所有優勢，MaxBright的生產效益可達K465i的5倍之多。

Veeco執行長John R. Peeler補充表示，Veeco繼2010年推出TurboDisc K465i成為業界最先進的MOCVD機台之後，MaxBright的推出更將Veeco的產品開發與市場領導地位向前推進一大步。MaxBright是目前業界生產效率最高、擁有成本最低的MOCVD機台，這項新產品投資開發的重大進展，將有效地大幅減少LED生產製造成本，同時更可加速實現LED照明時代的來臨。