前述4家EDA廠商都展示了其配置與佈線(place-and-route )工具與技術檔案能夠支援20奈米製程相關的進階規則。他們的流程包括了雙重曝影(double patterning)技術的元件庫預備步驟,而這是一種複雜的平板印刷技術,對於20奈米以及更先進製程的設計業者形成了新的挑戰。這種20奈米測試晶片需要雙重曝影,且經由各個EDA夥伴的實施而貢獻出了一個大型的配置與佈線設計。每項設計在製成晶片之前,都經過格羅方德半導體徹底的效力驗證,並以20奈米認可驗證檯進行檢查。因同EDA廠商進行早期且廣泛的20奈米合作,所有的設計都迅速的結束,而已成功的進入晶片製作階段。
格羅方德半導體除了展現對於20奈米配置與佈線流程中所有關鍵步驟的全面支援,包括雙重曝影的元件庫預備、配置(placement)、時脈樹合成(clock tree synthesis)、保持固定(hold fixing)、佈線、與佈線後最佳化(post route optimization)之外,並與上述的各家EDA廠商合作而納入技術與對應檔案(mapping files)所需的設定與支援。該流程也將展現對於擷取(extraction)、靜態時序分析(static timing analysis)與實體驗證(physical verification)的晶圓廠支援。對於欲評估20奈米技術的顧客,格羅方德半導體將提供設計、元件庫與完整的廠商流程稿。