2014年凸版光罩技術論壇11月8日盛大登場
2014/11/10-張琳一 凸版印刷2014年光罩技術論壇即將於11月14日(星期五)於新竹國賓飯店10樓舉行,延續長年以來的水準與風格,2014年凸版光罩技術論壇的舉辦,預料將再度為台灣的半導體業界,掀起熱烈的話題與人氣關注。
2014年的凸版光罩技術論壇內容,除了最新光罩技術、IC設計支援、Mask service等之議題發表之外,更有關於最新EUV Mask Technology之專題報告。而2014年的凸版光罩技術論壇亦很榮幸地邀請到了聯華電子先進技術開發副總經理游萃蓉博士擔任Keynote演講貴賓,將與現場來賓聽眾分享最新技術之開發成果與未來發展趨勢的挑戰。機會難得,不容錯過!
另外,2014年的技術論壇,凸版集團特別邀請戰略夥伴美國IBM資深經理Mr. M. Colburn於下午時段報告未來半導體10奈米以下之研發方向,內容精彩可期。
主辦單位表示,雖然目前線上系統報名時間已經截止,但是仍然歡迎有意參加而尚未報名的朋友,可於11月14日當天上午08:45 ~ 09:15攜帶名片2張,親至新竹國賓飯店10樓現場櫃台報名,填寫問卷還可以得到主辦單位準備的精美小禮物。
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