2016-05-03
Mentor Graphics強化對台積電10奈米製程量產支援
Mentor Graphics強化對台積電10奈米製程量產支援
2016/05/03-吳冠儀
Mentor Graphics公司宣布，藉由完成TSMC 10奈米FinFET V1.0認證，進一步增強和優化Calibre平台和Analog FastSPICE(AFS)平台。除此之外，Calibre和Analog FastSPICE平台已可應用在基於台積電7奈米FinFET製程最新設計規則手冊(DRM)和SPICE模型的初期設計開發和IP設計。
為協助共同客戶能準備好使用先進製程做設計，Mentor為台積電10奈米製程改進物理驗證工具，加速 Calibre nmDRC sign-off工具的執行時間，使其優於去年初針對10奈米精確度進行認證時的工具執行時間。Calibre nmLVS工具已可支援10奈米製程中新的元件參數抽取，以獲取更精準的SPICE模型和自熱模擬。同時，Mentor還提升了Calibre xACT解決方案的寄生參數精確度，並積極改善布局寄生參數抽取流程以滿足10奈米技術的要求。
如今，Mentor和台積電攜手合作，將Calibre平台的多樣化功能應用至7奈米FinFET製程中。Calibre nmDRC和Calibre nmLVS工具已通過客戶早期設計的驗證。台積電和Mentor正擴大SmartFill和Calibre多重曝光功能的使用功能，為7奈米的製程需求提供技術支援。
為獲得快速、準確的電路模擬，台積電認證AFS平台，包含AFS Mega電路模擬器可用於台積電10奈米V1.0製程。AFS平台還通過了新版7奈米DRM和SPICE可用於早期設計開發。
為支援10奈米製程先進的設計規則，Mentor增強了包括Olympus-SoC系統在內的布局佈線平台，且優化其結果能與sign-off參數抽取和靜態時序分析工具有相關性。
DIGITIMES中文網 原文網址: Mentor Graphics強化對台積電10奈米製程量產支援 http://www.digitimes.com.tw/tw/dt/n/shwnws.asp?cnlid=13&cat=10&id=0000468105_2JH2EGGPL3SGQZ69W5VIM#ixzz47Y7YqxJG
